特許
J-GLOBAL ID：201703008242640232
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-064927
公開番号（公開出願番号）：特開2013-194014
特許番号：特許第6214133号
出願日： 2012年03月22日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される塩。
[式(I)中、
Q1、Q2、Q3及びQ4は、フッ素原子を表す。
L1及びL2は、それぞれ独立に、式(b1-1)で表される基を表す。
(式(b1-1)中、
Lb2は、-CH2-を表す。
*は、結合手であり、左側の*は、-C(Q1)(Q2)-又は-C(Q3)(Q4)-の炭素原子との結合手を表す。)
R1は、炭素数1〜3のアルキル基を表す。
R2は、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基を表す。
Za+及びZb+は、それぞれ独立に、有機対イオンを表す。]
IPC (5件)：
C07C 309/17 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
, C09K 3/00 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
C07C 309/17 CSP
, C07C 381/12
, C09K 3/00 K
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
