特許
J-GLOBAL ID:201703008456393984

インプラント・スタンド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 五十畑 勉男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-055211
公開番号(公開出願番号):特開2017-164418
出願日: 2016年03月18日
公開日(公表日): 2017年09月21日
要約:
【課題】インプラント用紫外線処理装置に用いられるインプラント・スタンドにおいて、インプラントの紫外線処理に先立つ、オートクレーブでの高温高圧の水蒸気による殺菌処理後に、インプラント支持体のインプラント支持孔内に水蒸気の凝縮によって水滴が残留することを防止する構造を提供することである。【解決手段】インプラント・スタンドは、底板と、該底板の上に設けられたインプラント支持体とからなり、前記インプラント支持体にはインプラント支持孔が上下方向に貫通して設けられ、該インプラント支持孔の下端開口部が、前記底板との間に間隙を有することを特徴とする。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
インプラント用紫外線処理装置に用いられるインプラント・スタンドであって、 前記インプラント・スタンドは、底板と、該底板の上に設けられたインプラント支持体とからなり、 前記インプラント支持体にはインプラント支持孔が上下方向に貫通して設けられ、該インプラント支持孔の下端開口部が、前記底板との間に間隙を有することを特徴とするインプラント・スタンド。
IPC (2件):
A61C 8/00 ,  A61C 19/00
FI (2件):
A61C8/00 Z ,  A61C19/00 J
Fターム (3件):
4C052AA07 ,  4C052LL06 ,  4C159AA51

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