特許
J-GLOBAL ID：201703008609088116

入口流れシールドを備えたハイドロクロン

発明者：
ジョージ・ディー・カッフェル

ジョージ・ディー・カッフェル について

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ジーン・エイ・マッケイ

ジーン・エイ・マッケイ について

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スティーヴン・イー・オライリー

スティーヴン・イー・オライリー について


出願人/特許権者：
ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  出野 知 ,  胡田 尚則
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-512685
特許番号：特許第6105718号
出願日： 2013年05月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 中心軸(X)を中心とする内周壁(22)、流体入口(14)、濾過済み流体出口(16)、流出液出口(18)、プロセス流体出口(20)、渦流れバリア(34)により分離された渦チャンバー(24)および流出液分離チャンバー(30)を含むタンク(12)であって、前記流出液出口(18)およびプロセス流体出口(20)が、前記流出液分離チャンバー(30)内に位置する、タンク(12); 前記渦チャンバー(24)内に位置し、中心軸(X)に関して対称に位置する外膜表面(44)を含み、かつ前記濾過済み流体出口(16)と流体連通する濾液チャンバー(46)を取り囲む、フィルタアセンブリ(26); 前記外膜表面(44)の周囲に同心円状に位置し、かつ前記外膜表面(44)と回転可能に係合する、クリーニングアセンブリ(50); 前記流体入口(14)から延び、前記渦チャンバー(24)の内周壁(22)と前記外膜表面(44)との間の渦領域(25)を画定し、流入液を受容するよう適合された、流体通路(28); 前記フィルタアセンブリ(26)の周囲に同心円状に位置するクリーニングアセンブリ(50)上に設置され、前記流体入口(14)から前記渦チャンバー(24)に流入する流体の少なくとも一部が前記外膜表面(44)に衝撃を与えることを妨げるように適合された、入口流れシールド(58);を含み、 前記渦流れバリア(34)が、前記渦領域(25)から前記流出液分離チャンバー(30)への流体流れを乱す、 ハイドロクロン(10)。
IPC (6件)：
B04C 5/12 ( 200 6.01) ,  B04C 5/22 ( 200 6.01) ,  B01D 65/04 ( 200 6.01) ,  B01D 61/20 ( 200 6.01) ,  B01D 29/64 ( 200 6.01) ,  B01D 29/90 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B04C 5/12 A ,  B04C 5/22 ,  B01D 65/04 ,  B01D 61/20 ,  B01D 29/38 550 C ,  B01D 29/42 501 C
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特許第6531066号
  • 分離装置
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-511520   出願人：マザーウェルブリッジファブリケイターズリミテッド, マッケオウン,ジョンベル
  • 特許第1214962号
審査官引用 (3件)
  • 特許第6531066号
  • 分離装置
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-511520   出願人：マザーウェルブリッジファブリケイターズリミテッド, マッケオウン,ジョンベル
  • 特許第1214962号

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