特許

J-GLOBAL ID：201703008855833149

光加工装置及び光加工物の生産方法

発明者： 中村 涼真 ,  中島 智宏
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-136656
公開番号（公開出願番号）：特開2017-056489
出願日： 2016年07月11日
公開日（公表日）： 2017年03月23日
要約：

【課題】加工対象物に対する光照射位置を光走査手段によって移動させる光加工装置において、比較的大きな加工対象物に対しても加工処理しやすくすることを課題とする。【解決手段】光源11と、前記光源による光を走査する光走査手段21と、前記光走査手段によって走査された光を加工対象物35へ向けて集光させる集光手段22とを有する光加工装置において、前記集光手段は、前記加工対象物に対して移動する移動手段25に搭載され、前記光源は、前記移動手段に非搭載であることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源と、 前記光源による光を走査する光走査手段と、 前記光走査手段によって走査された光を加工対象物へ向けて集光させる集光手段とを有する光加工装置において、 前記集光手段は、前記加工対象物に対して移動する移動手段に搭載され、 前記光源は、前記移動手段に非搭載である ことを特徴とする光加工装置。

IPC (4件)：

B23K 26/08 ,  B23K 26/351 ,  G02B 26/08 ,  G02B 26/10

FI (4件)：

B23K26/08 F ,  B23K26/351 ,  G02B26/08 E ,  G02B26/10 104Z

Fターム (52件)：

2H045AA01 ,  2H045AB01 ,  2H045BA12 ,  2H045CA63 ,  2H045DA11 ,  2H045DA12 ,  2H141MA12 ,  2H141MB24 ,  2H141MC01 ,  2H141MD12 ,  2H141MD15 ,  2H141MD20 ,  2H141MD35 ,  2H141ME01 ,  2H141ME25 ,  2H141MG05 ,  4E168AD04 ,  4E168AD18 ,  4E168CA06 ,  4E168CA13 ,  4E168CB01 ,  4E168CB03 ,  4E168CB04 ,  4E168CB07 ,  4E168CB12 ,  4E168CB18 ,  4E168DA02 ,  4E168DA03 ,  4E168DA04 ,  4E168DA06 ,  4E168DA13 ,  4E168DA28 ,  4E168DA35 ,  4E168DA38 ,  4E168DA45 ,  4E168DA46 ,  4E168EA05 ,  4E168EA15 ,  4E168FC02 ,  4E168GA01 ,  4E168GA02 ,  4E168HA01 ,  4E168JA01 ,  4E168JA11 ,  4E168JA17 ,  4E168JA28 ,  4E168JB02 ,  4E168KA04 ,  4E168KA05 ,  4E168KA07 ,  4E168KA08 ,  4E168KA11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• レーザ加工装置、加工方法、および当該加工方法を用いた回路基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-256552   出願人：TDK株式会社