放射性標識化合物の製造装置及び製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：右田俊介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-069722
公開番号（公開出願番号）：特開2017-178865
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：

【課題】排ガス中に含まれる放射性物質の濃度を、発塵を抑制しつつ十分に低下させる。【解決手段】製造装置100は、非放射性の標識前駆体化合物に放射性同位元素を導入して放射性標識化合物を製造する装置である。この製造装置100は、放射性標識化合物の合成が行われる合成部(反応容器101)と、合成部から排ガスが導入される排ガス処理容器130と、を備えている。排ガス処理容器130にはモレキュラーシーブス133が貯留されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

非放射性の標識前駆体化合物に放射性同位元素を導入して放射性標識化合物を製造する放射性標識化合物の製造装置であって、前記放射性標識化合物の合成が行われる合成部と、前記合成部から排ガスが導入される排ガス処理容器と、を備え、前記排ガス処理容器にはモレキュラーシーブスが貯留されている放射性標識化合物の製造装置。

IPC (3件)：

C07B 59/00 , G21F 9/02 , A61J 3/00

FI (4件)：

C07B59/00 , G21F9/02 511S , G21F9/02 511A , A61J3/00 310Z

Fターム (12件)：

4C047CC28 , 4C047HH04 , 4C047LL20 , 4C057AA30 , 4C057BB02 , 4C057DD01 , 4C057HH10 , 4C085HH03 , 4C085KA29 , 4C085KB20 , 4C085KB78 , 4H006AA04

引用特許：

出願人引用 (6件)

[11C]CH3Xの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-206542 出願人：独立行政法人放射線医学総合研究所
フッ素化法
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-542100 出願人：ジーイー・ヘルスケア・リミテッド
18FFDG合成室及びそこから排出される放射性物質の除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-300267 出願人：国立大学法人東京大学, 株式会社ワカイダ・エンジニアリング, 東洋紡績株式会社

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審査官引用 (6件)

[11C]CH3Xの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-206542 出願人：独立行政法人放射線医学総合研究所
フッ素化法
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-542100 出願人：ジーイー・ヘルスケア・リミテッド
18FFDG合成室及びそこから排出される放射性物質の除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-300267 出願人：国立大学法人東京大学, 株式会社ワカイダ・エンジニアリング, 東洋紡績株式会社

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