特許
J-GLOBAL ID:201703009543988990

5-ヒドロキシメチルフルフラールの選択的酸化のための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 大野 聖二 ,  松任谷 優子 ,  北野 健 ,  梅田 慎介 ,  森田 裕
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-518590
公開番号(公開出願番号):特表2017-518386
出願日: 2015年06月17日
公開日(公表日): 2017年07月06日
要約:
5-ヒドロキシメチル-2-フルフラールから出発して酸化フラン誘導体を溶媒、酸化剤、触媒および所望により塩基の存在下で選択的に製造するための方法であって、酸化プロセスがフローで連続的に行われ、反応パラメーターを変更するための手段が提供されることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
IPC (2件):
C07D 307/48 ,  C07D 307/68
FI (2件):
C07D307/48 ,  C07D307/68
Fターム (2件):
4C037HA21 ,  4C037MA01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る