特許
J-GLOBAL ID:201703009656622429

保持装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人アルファ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-065262
公開番号(公開出願番号):特開2017-183381
出願日: 2016年03月29日
公開日(公表日): 2017年10月05日
要約:
【課題】保持装置において保持対象物の温度分布の均一性を十分に向上させる。【解決手段】保持装置は、板状のセラミックス板と、ヒータとを備え、セラミックス板の第1の表面上に対象物を保持する装置である。保持装置のセラミックス板には、第1の表面とは反対側の第2の表面に開口するガス供給孔と第1の表面に開口するガス噴出孔とを接続するガス噴出流路が形成されている。さらに、セラミックス板には、第1の表面に開口する少なくとも2つのガス流出入孔に連通し、セラミックス板の内部に配置されたガス滞留空間が形成されている。【選択図】図7
請求項(抜粋):
第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有する板状のセラミックス板と、 前記セラミックス板の内部、または、前記セラミックス板の前記第2の表面側に配置されたヒータと、 を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、 前記セラミックス板には、 前記第2の表面に開口する少なくとも1つのガス供給孔と、前記第1の表面に開口する少なくとも1つのガス噴出孔と、を接続する少なくとも1つのガス噴出流路と、 前記第1の表面に開口する少なくとも2つのガス流出入孔に連通し、前記セラミックス板の内部に配置されたガス滞留空間と、 が形成されていることを特徴とする、保持装置。
IPC (1件):
H01L 21/683
FI (1件):
H01L21/68 N
Fターム (15件):
5F131AA02 ,  5F131BA03 ,  5F131BA04 ,  5F131BA13 ,  5F131BA19 ,  5F131CA03 ,  5F131EA03 ,  5F131EB01 ,  5F131EB11 ,  5F131EB54 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131EB81 ,  5F131EB82 ,  5F131EB84
引用特許:
審査官引用 (1件)

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