特許
J-GLOBAL ID:201703009676622565
磁気テープおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-190494
公開番号(公開出願番号):特開2017-068893
出願日: 2016年09月29日
公開日(公表日): 2017年04月06日
要約:
【課題】優れた電磁変換特性を発揮することができ、かつ繰り返し走行中の磁気テープ表面と磁気ヘッドとの貼り付きおよび磁気テープ表面の傷の発生が抑制された磁気テープを提供すること。【解決手段】非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、磁性層は脂肪酸エステルを含み、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、0nm超かつ5.0nm以下であり、磁気テープを真空加熱した後に磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、0nm超かつ5.0nm以下であり、かつ磁気テープを真空加熱した後に磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSafterと、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSbeforeとの差分(Safter-Sbefore)は、0nm超かつ8.0nm以下である磁気テープ。磁気テープの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
前記磁性層は脂肪酸エステルを含み、
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、0nm超かつ5.0nm以下であり、
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、0nm超かつ5.0nm以下であり、かつ
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSafterと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープの磁性層側表面において光学干渉法により測定されるスペーシングSbeforeとの差分、Safter-Sbefore、は、0nm超かつ8.0nm以下である磁気テープ。
IPC (5件):
G11B 5/70
, G11B 5/78
, G11B 5/708
, G11B 5/738
, G11B 5/84
FI (5件):
G11B5/70
, G11B5/78
, G11B5/708
, G11B5/738
, G11B5/84 Z
Fターム (8件):
5D006BA10
, 5D006BA19
, 5D006DA04
, 5D006EA01
, 5D006FA05
, 5D112AA05
, 5D112AA22
, 5D112GA00
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