特許

J-GLOBAL ID：201703009761830673

EUVマスク検査装置、及びフォーカス調整方法

発明者： 武久 究
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (2件)： 家入 健 ,  岩瀬 康弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-074360
公開番号（公開出願番号）：特開2017-187547
出願日： 2016年04月01日
公開日（公表日）： 2017年10月12日
要約：

【課題】適切にフォーカス位置を調整することができるEUVマスク検査装置、及びそのフォーカス調整方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、EUVマスク103を照明するための照明光EUV141を発生するEUV光源130と、EUVマスク103で反射した正反射光S142を反射する反射鏡を複数有する拡大光学系133と、拡大光学系133を介して、正反射光S142を検出して、EUVマスク103を撮像するCCDカメラ112と、AF光を発生するため、波長445〜473nmで発振するAF用レーザ装置120と、EUVマスクで反射したレーザ光AF145を検出するAF用センサ124と、AF用センサ124での検出結果に応じて、EUVマスク103における照明光EUV141のフォーカス位置を調整する制御部132と、を備えたものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

EUV(Extremely Ultraviolet)マスクを照明するためのEUV光を発生するEUV光源と、 前記EUVマスクで反射した前記EUV光を反射する反射鏡を複数有する光学系と、 前記光学系を介して、前記EUV光を検出して、前記EUVマスクを撮像する撮像装置と、 AF(Auto Focus)光を発生するため、波長445nm〜473nmで発振する半導体レーザ装置と、 前記EUVマスクで反射した前記AF光を検出するAF用センサと、 前記AF用センサでの検出結果に応じて、前記EUVマスクにおける前記EUV光のフォーカス位置を調整する制御部と、を備えたEUVマスク検査装置。

IPC (4件)：

G03F 1/44 ,  G03F 1/24 ,  G01N 21/956 ,  H01S 5/022

FI (4件)：

G03F1/44 ,  G03F1/24 ,  G01N21/956 A ,  H01S5/022

Fターム (21件)：

2G051AA56 ,  2G051AB06 ,  2G051BA05 ,  2G051BB05 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CC11 ,  2G051DA06 ,  2H195BD04 ,  2H195BD12 ,  2H195BD20 ,  2H195CA11 ,  2H195CA22 ,  5F173MA10 ,  5F173MB03 ,  5F173MC30 ,  5F173MF03 ,  5F173MF04 ,  5F173MF28 ,  5F173MF39 ,  5F173MF40