特許

J-GLOBAL ID：201703009973709262

成膜装置

発明者： 岡崎 尚登 ,  吉原 健 ,  松野 知保 ,  田野 義浩 ,  高杉 圭吾 ,  福田 諭
出願人/特許権者： 日本アイ・ティ・エフ株式会社
代理人 (2件)： 上代 哲司 ,  神野 直美
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013084328
公開番号（公開出願番号）：WO2015-092928
出願日： 2013年12月20日
公開日（公表日）： 2015年06月25日
要約：

敷地面積の確保や作業現場の設計変更、あるいは設備の複雑化に伴う設備コストの上昇を招くことがなく、設置された室内へのダストの拡散を適切に抑制して、高い生産性で成膜処理することができる成膜装置を提供する。 真空チャンバー内に収容した基材の表面に成膜処理を行う成膜装置であって、真空チャンバーに、成膜処理前の基材を真空チャンバーに搬入する搬入用の扉と、成膜処理後の基材を真空チャンバーから搬出する搬出用の扉とが設けられ、搬入用の扉は互いに区切られた2つの空間の一方の空間に配置されており、搬出用の扉は他方の空間に配置されている成膜装置。搬出用の扉の外側に、搬出用の扉の周囲を仕切りによって取り囲むことにより形成されたブースが設けられている成膜装置。

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内に収容した基材の表面に成膜処理を行う成膜装置であって、 前記真空チャンバーに、成膜処理前の前記基材を前記真空チャンバーに搬入する搬入用の扉と、成膜処理後の前記基材を前記真空チャンバーから搬出する搬出用の扉とが設けられ、 前記搬入用の扉は互いに区切られた2つの空間の一方の空間に配置されており、前記搬出用の扉は他方の空間に配置されている ことを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 ,  C23C 16/44

FI (2件)：

C23C14/50 K ,  C23C16/44 F

Fターム (27件)：

3C037CC04 ,  3C046FF18 ,  4K029AA02 ,  4K029AA21 ,  4K029BA58 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  4K029DA08 ,  4K029DA09 ,  4K029DB04 ,  4K029DD06 ,  4K029FA05 ,  4K029JA02 ,  4K029JA06 ,  4K029KA01 ,  4K029KA05 ,  4K029KA09 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA10 ,  4K030KA11 ,  4K030KA45 ,  4K030LA22