特許

J-GLOBAL ID：201703009988547803

サセプタ、エピタキシャル成長装置、及びエピタキシャルウェーハ

発明者： 野上 彰二 ,  和田 直之
出願人/特許権者： 株式会社SUMCO
代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  杉村 光嗣 ,  川原 敬祐
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016002165
公開番号（公開出願番号）：WO2016-174860
出願日： 2016年04月22日
公開日（公表日）： 2016年11月03日
要約：

本発明は、ウェーハの裏面及び面取り部にリフトピン又はサセプタとの接触に起因する深い疵を発生させず、かつ、サセプタからの発塵を抑制することが可能なサセプタを提供する。 本発明の一実施形態のサセプタ20は、サセプタ本体30及び弧状部材40A,40Bを含む。座ぐり部21の底面は、弧状サセプタ部材のおもて面41A,41Bの全体と、サセプタ本体のおもて面の一部33とで構成される。ウェーハWを搬送する際に、リフトピン44により上昇される弧状部材40A,40Bのおもて面の全体が、ウェーハWの裏面の外周部のみを面接触で支持する。

請求項（抜粋）：

エピタキシャル成長装置内でウェーハを載置するためのサセプタであって、 前記サセプタのおもて面に、前記ウェーハが載置される座ぐり部が形成され、 前記サセプタは、サセプタ本体と、該サセプタ本体のおもて面の外周部に設けられた2以上の凹部にそれぞれ載置された弧状部材とを有し、 前記座ぐり部の底面が、前記弧状部材のおもて面の全体と、前記サセプタ本体のおもて面の一部とで構成され、 前記サセプタ本体には、前記2以上の各弧状部材の裏面を支持して前記2以上の各弧状部材を昇降させるリフトピンを挿通するための2以上の貫通孔が設けられ、 前記ウェーハを前記座ぐり部に載置する際、及び、前記ウェーハを前記座ぐり部から搬出する際に、前記リフトピンにより上昇される前記弧状部材のおもて面の全体が、前記ウェーハの裏面の外周部のみを面接触で支持する支持面として機能することを特徴とするサセプタ。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/683

FI (3件)：

H01L21/205 ,  C23C16/458 ,  H01L21/68 N

Fターム (35件)：

4K030AA03 ,  4K030AA17 ,  4K030BA29 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F045AB02 ,  5F045AF03 ,  5F045DP04 ,  5F045EK12 ,  5F045EK14 ,  5F045EM02 ,  5F045EM09 ,  5F045EN04 ,  5F131AA02 ,  5F131BA04 ,  5F131CA09 ,  5F131CA15 ,  5F131DA33 ,  5F131DB02 ,  5F131EA24 ,  5F131EB53 ,  5F131EB54 ,  5F131EB57 ,  5F131EB72 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131EB81 ,  5F131FA14 ,  5F131HA22 ,  5F131HA28