特許
J-GLOBAL ID：201703009993392567
補給剤、表面処理金属材料の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013064801
公開番号（公開出願番号）：WO2014-192082
出願日： 2013年05月28日
公開日（公表日）： 2014年12月04日
要約：
本発明は、金属材料に対して連続的に化成処理および/または電解処理を行うことができるように、金属材料用表面処理液中のHF濃度の上昇を回避しつつ、ジルコニウムイオンを金属材料用表面処理液により高濃度で補給することができ、長期保存安定性に優れる補給剤を提供することを目的とする。本発明の補給剤は、塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、および炭酸ジルコニウムアンモニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含むフッ素非含有ジルコニウム化合物(A)と、フッ化水素酸、フッ化水素酸の塩、ジルコニウムフッ化水素酸、および、ジルコニウムフッ化水素酸の塩からなる群から選択される少なくとも1種を含むフッ素含有物(B)と、硝酸、塩酸、硫酸、および、酢酸からなる群から選択される少なくとも1種を含む酸成分(C)とを、所定量含有する。
請求項（抜粋）：
金属材料に対して、ジルコニウムを含有する化成処理皮膜を化成処理および/または電解処理によって形成することに用いられる、ジルコニウムイオンおよびフッ素イオンを含む金属材料用表面処理液に対して、ジルコニウムイオンを補給するために使用される補給剤であって、
塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、および炭酸ジルコニウムアンモニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含むフッ素非含有ジルコニウム化合物(A)と、フッ化水素酸、フッ化水素酸の塩、ジルコニウムフッ化水素酸、および、ジルコニウムフッ化水素酸の塩からなる群から選択される少なくとも1種を含むフッ素含有物(B)と、硝酸、塩酸、硫酸、および、酢酸からなる群から選択される少なくとも1種を含む酸成分(C)とを含有し、
以下の(I)〜(III)を満足する、補給剤。
(I)前記酸成分(C)由来のアニオンの合計モル量(MAC)と前記フッ素含有物(B)に由来するフッ素イオンの合計モル量(MF)との比(MAC/MF)が0.35以上2.00未満である。
(II)前記フッ素非含有ジルコニウム化合物(A)および前記フッ素含有物(B)に由来するジルコニウムイオンの合計濃度(g/L)が25以上である。
(III)前記フッ素含有物(B)に由来するフッ素イオンの合計モル量(MF)と前記フッ素非含有ジルコニウム化合物(A)および前記フッ素含有物(B)に由来するジルコニウムイオンの合計モル量(MZr)との比(MF/MZr)が2.00以上6.00未満である。
IPC (3件)：
C23C 22/34
, C25D 11/00
, C25D 11/02
C23C22/34
, C25D11/00 301
, C25D11/02
4K026AA01
, 4K026AA02
, 4K026AA07
, 4K026AA09
, 4K026AA11
, 4K026BA01
, 4K026CA13
, 4K026CA18
, 4K026CA28
, 4K026CA36
, 4K026DA02
, 4K026DA03
, 4K026DA06
, 4K026DA18
