特許
J-GLOBAL ID：201703010441091048
マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-250843
公開番号（公開出願番号）：特開2015-109323
特許番号：特許第6190254号
出願日： 2013年12月04日
公開日（公表日）： 2015年06月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 荷電粒子ビームによるマルチビームのショット毎に、各ビームの1ショット分の照射を照射時間が異なる複数回の分割ショットに分割するように前記複数回の分割ショットのデータを生成する分割ショットデータ生成部と、
前記複数回の分割ショットのデータに沿って、マルチビームの各ビームを個別にブランキング制御する個別ブランキング機構と、
前記分割ショット毎に、マルチビームのONビーム数に応じてマルチビーム全体の像の伸縮率を補正する伸縮率補正値を取得する伸縮率補正値取得部と、
前記分割ショット毎に、前記伸縮率補正値を用いてマルチビーム全体の像の伸縮率を補正するレンズと、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 W
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
