特許
J-GLOBAL ID：201703010470896616
放射性核種製造用薄膜ターゲット及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩島 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-065276
公開番号（公開出願番号）：特開2017-181149
出願日： 2016年03月29日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：
【課題】加速器の性能を有効利用することができ、放射性核種の収量も向上させることができる放射性核種製造用薄膜ターゲットを提供する。【解決手段】 薄膜ターゲット12には、加速器で加速されたビーム7が照射される。薄膜ターゲット12は、波形に曲げられると共に、第一の傾斜面部12a、第二の傾斜面部12b及び第三の傾斜面部12cを備える。波形の薄膜ターゲット12は、ビーム7の入射方向と直交するように配置される。第一ないし第三の傾斜面部12a〜12cの少なくとも一つに対するビーム7の入射角が45度以下に設定される。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
加速器で加速されたビームが照射される放射性核種製造用薄膜ターゲットであって、
前記放射性核種製造用薄膜ターゲットは、山形に曲げられると共に、少なくとも第一の傾斜面部及び第二の傾斜面部を備える放射性核種製造用薄膜ターゲット。
IPC (3件)：
G21G 1/10
, G21G 4/08
, H05H 6/00
G21G1/10
, G21G4/08
, H05H6/00
2G085AA03
, 2G085AA11
, 2G085BA17
, 2G085EA07
