特許
J-GLOBAL ID：201703010655066083
フェニルインドール含有ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 伴 知篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-507864
特許番号：特許第6094767号
出願日： 2013年03月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記式(1):
(式(1)中、R1、R2、及びR3は環の水素原子の置換基であって、それぞれ独立に、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、炭素数1乃至10のアルキル基、炭素数2乃至10のアルケニル基、炭素数6乃至40のアリール基、又はエーテル結合、ケトン結合、若しくはエステル結合を含んでいても良いそれらの組み合わせである。R4は水素原子、炭素数1乃至10のアルキル基、炭素数2乃至10のアルケニル基、炭素数6乃至40のアリール基、又はエーテル結合、ケトン結合、若しくはエステル結合を含んでいても良いそれらの組み合わせである。R5は水素原子、又はハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸アルキルエステル基、フェニル基、炭素数1乃至10のアルコキシ基、若しくは水酸基で置換されていても良い炭素数6乃至40のアリール基、又は複素環基であり、R6は水素原子、又はハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸アルキルエステル基、若しくは水酸基で置換されていても良い炭素数1乃至10のアルキル基、炭素数6乃至40のアリール基、又は複素環基であり、あるいはR5とR6はそれらが結合する炭素原子と一緒になって環を形成していても良い。環A及び環Bはそれぞれベンゼン環、ナフタレン環、又はアントラセン環を示す。n1、n2、及びn3はそれぞれ0以上で、且つ環に置換できる最大の数までの整数である。)で表される単位構造を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/11 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, C08G 12/26 ( 200 6.01)
G03F 7/11 503
, H01L 21/30 574
, C08G 12/26
