特許
J-GLOBAL ID：201703010750251939

R-T-B系希土類磁石粉末の製造方法、R-T-B系希土類磁石粉末、及びボンド磁石

発明者：
金子 翔平

金子 翔平 について

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重岡 都美

重岡 都美 について

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片山 信宏

片山 信宏 について

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森本 耕一郎

森本 耕一郎 について


出願人/特許権者：
戸田工業株式会社

戸田工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-014044
公開番号（公開出願番号）：特開2017-041624
出願日： 2016年01月28日
公開日（公表日）： 2017年02月23日
要約：
【課題】優れた保磁力を有し、且つ、高い残留磁束密度をも備えたR-T-B系希土類磁石粉末の製造方法の提供する。【解決手段】HDDR(水素化-相分解-脱水素-再結合)処理によってR-T-B系希土類磁石粉末を得る製造方法において、その原料合金は、R(R:Yを含む一種以上の希土類元素)、T(T:Fe、またはFe及びCo)、B(B:ホウ素)を含み、該原料合金の組成はR量が12.0at.%以上17.0at.%以下であり、B量が4.5at.%以上7.5at.%以下であり、HDDR処理のDR工程が予備排気工程と完全排気工程とを有し、予備排気工程での排気による減圧速度を1kPa/min以上30kPa/min以下としてR-T-B系希土類磁石粉末を製造する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
HDDR処理によってR-T-B系希土類磁石粉末を得る製造方法において、その原料合金が、R(R:Yを含む一種以上の希土類元素)、T(T:Fe、またはFe及びCo)、B(B:ホウ素)を含み、該原料合金の組成はR量が12.0at.%以上17.0at.%以下であり、B量が4.5at.%以上7.5at.%以下であり、HDDR処理のDR工程が予備排気工程と完全排気工程とを有し、予備排気工程での排気による減圧速度が1kPa/min以上30kPa/min以下であることを特徴とするR-T-B系希土類磁石粉末の製造方法。
IPC (10件)：
H01F 41/02 ,  H01F 1/057 ,  H01F 1/06 ,  H01F 1/08 ,  B22F 9/04 ,  B22F 9/00 ,  B22F 1/00 ,  B22F 3/00 ,  B22F 1/02 ,  C22C 38/00
FI (12件)：
H01F41/02 G ,  H01F1/04 H ,  H01F1/06 A ,  H01F1/08 A ,  B22F9/04 E ,  B22F9/04 D ,  B22F9/04 C ,  B22F9/00 C ,  B22F1/00 Y ,  B22F3/00 C ,  B22F1/02 C ,  C22C38/00 303D
Fターム (31件)：
4K017AA04 ,  4K017BA06 ,  4K017BB01 ,  4K017BB06 ,  4K017BB09 ,  4K017BB12 ,  4K017BB13 ,  4K017BB18 ,  4K017EA03 ,  4K017EA08 ,  4K017EA09 ,  4K017FA02 ,  4K017FB02 ,  4K018BA18 ,  4K018BC01 ,  4K018BC09 ,  4K018BC12 ,  4K018BC29 ,  4K018BD01 ,  4K018GA04 ,  4K018KA46 ,  5E040AA04 ,  5E040AA19 ,  5E040BB03 ,  5E040CA01 ,  5E040HB17 ,  5E040NN01 ,  5E040NN18 ,  5E062CC05 ,  5E062CD05 ,  5E062CG03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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