特許
J-GLOBAL ID：201703010801443137

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
増山 達郎

増山 達郎 について

, 
嶋田 雅彦

嶋田 雅彦 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-189877
公開番号（公開出願番号）：特開2017-071768
出願日： 2016年09月28日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：
【課題】ラインエッジラフネスが良好なレジストパターンを製造できる樹脂及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂である。[R1及びR2は夫々独立にハロゲン原子で置換/非置換のアルキル基、H等;R3及びR4は、夫々独立にアルキル基;A1〜A5は、夫々アルカンジイル基又は*-A3-X1-(A4-X2)a-A5-、*はOとの結合手;酸素原子との結合位の炭素原子は3級炭素原子ではない、X1及びX2は、それぞれ酸素原子、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基;aは0又は1を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される化合物に由来する構造単位及びフッ素原子を有する構造単位(a4)を有する樹脂。
IPC (4件)：
C08F 122/10 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
C08F122/10 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/20 521
Fターム (60件)：
2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF11P ,  2H225AF16P ,  2H225AF22P ,  2H225AF25P ,  2H225AF53P ,  2H225AF67P ,  2H225AF71P ,  2H225AF99P ,  2H225AH17 ,  2H225AH19 ,  2H225AH29 ,  2H225AH50 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ58 ,  2H225AM22P ,  2H225AM23P ,  2H225AM27P ,  2H225AM99P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN45P ,  2H225AN54P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225BA30P ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL61P ,  4J100AL61Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BB10Q ,  4J100BB13Q ,  4J100BC09R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)

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