メトロロジー方法、ターゲット、及び基板

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：稲葉良幸 , 大貫敏史 , 江口昭彦 , 内藤和彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-511601
公開番号（公開出願番号）：特表2017-526973
出願日： 2015年08月19日
公開日（公表日）： 2017年09月14日
要約：

少なくとも第1のサブターゲット及び少なくとも第2のサブターゲットを有する回析測定ターゲットであって、(1)第1及び第2のサブターゲットは各々周期構造のペアを含み、第1のサブターゲットは第2のサブターゲットとは異なる設計を有し、異なる設計は、第2のサブターゲット周期構造とは異なるピッチ、フィーチャ幅、空間幅、及び/又はセグメンテーションを有する第1のサブターゲット周期構造を含むか、あるいは(2)第1及び第2のサブターゲットはそれぞれ、第1の層内に第1及び第2の周期構造を含み、第3の周期構造は、第1の層の下の第2の層内の第1の周期構造の下に少なくとも部分的に配置され、第2の層内の第2の周期構造の下にはいずれの周期構造も存在せず、第4の周期構造は、第2の層の下の第3の層内の第2の周期構造の下に少なくとも部分的に配置される。サブターゲットの周辺にアシストフィーチャを配置することを含むこうした測定ターゲットを考案する方法であって、アシストフィーチャはサブターゲットの周辺で測定される強度ピークを低減させるように構成される。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法であって、放射を用いて基板上の回析測定ターゲットを照明することであって、前記測定ターゲットは少なくとも第1のサブターゲット及び少なくとも第2のサブターゲットを備え、前記第1及び第2のサブターゲットは各々周期構造のペアを備え、前記第1のサブターゲットは前記第2のサブターゲットとは異なる設計を有し、前記異なる設計は、前記第2のサブターゲットの周期構造とは異なるピッチ、フィーチャ幅、空間幅、及び/又はセグメンテーションを有する前記第1のサブターゲットの周期構造を備えることと、少なくとも前記第1及び第2のサブターゲットによって散乱される放射を検出し、そのターゲットについての前記リソグラフィプロセスの前記パラメータを表す測定を取得することと、を含む、方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 , H01L 21/027 , G01B 11/02 , G01B 11/00

FI (5件)：

G03F7/20 501 , G03F7/20 521 , H01L21/30 502D , G01B11/02 G , G01B11/00 C

Fターム (37件)：

2F065AA03 , 2F065AA21 , 2F065AA22 , 2F065BB02 , 2F065BB17 , 2F065CC17 , 2F065DD03 , 2F065FF44 , 2F065FF48 , 2F065HH04 , 2H197AA06 , 2H197AA09 , 2H197AA12 , 2H197BA04 , 2H197BA09 , 2H197BA11 , 2H197CA06 , 2H197CA09 , 2H197CA10 , 2H197CC05 , 2H197CD12 , 2H197CD13 , 2H197CD43 , 2H197DC05 , 2H197DC20 , 2H197EA19 , 2H197EA25 , 2H197EB05 , 2H197EB06 , 2H197EB10 , 2H197EB16 , 2H197EB25 , 2H197HA03 , 2H197JA17 , 2H197JA22 , 2H197JA23 , 5F146AA31

引用特許：

審査官引用 (7件)

角度分解したスペクトロスコピーリソグラフィの特性解析方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-156383 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
位置合せデータ算出方法および位置合せデータ算出装置、位置合せ方法および位置合せ装置と、露光方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-299197 出願人：シャープ株式会社
重ね合わせマーク、重ね合わせマークの設計方法および重ね合わせ測定の方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-524212 出願人：ケーエルエー-テンカー・コーポレーション

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