特許

J-GLOBAL ID：201703010928024800

載置台及びプラズマ処理装置

発明者： 小岩 真悟 ,  工藤 恭久 ,  小泉 克之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-247630
公開番号（公開出願番号）：特開2017-063011
出願日： 2015年12月18日
公開日（公表日）： 2017年03月30日
要約：

【課題】プラズマ処理装置用の載置台を提供する。【解決手段】一実施形態の載置台は、冷却台、給電体、静電チャック、第1の弾性部材、及び締付部材を備えている。給電体は、アルミニウム又はアルミニウム合金製であり、高周波電源からの高周波を伝送するために、冷却台に接続されている。静電チャックの基台は、導電性を有している。吸着部は、セラミックス製であり、吸着用電極及びヒータを内蔵している。吸着部は、金属接合により基台に結合されている。第1の弾性部材は、冷却台と基台との間に設けられており、静電チャックを冷却台から離間させている。第1の弾性部材は、冷却台と基台との間に伝熱ガスが供給される伝熱空間を、冷却台及び基台と共に画成する。締付部材は、金属製であり、冷却台及び基台に接触し、基台及び第1の弾性部材を冷却台と締付部材の間に挟持する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

冷媒用の流路が形成された金属製の冷却台と、 高周波電源からの高周波を伝送するアルミニウム又はアルミニウム合金製の給電体であり、前記冷却台に接続された、該給電体と、 前記冷却台の上に設けられた導電性の基台、及び、吸着用電極及びヒータを内蔵し、前記基台の上に設けられており、金属接合により該基台に結合されたセラミックス製の吸着部を有する静電チャックと、 前記冷却台と前記基台との間に設けられた絶縁性の第1の弾性部材であり、前記静電チャックを前記冷却台から離間させ、且つ、前記冷却台と前記基台との間に伝熱ガスが供給される伝熱空間を、該冷却台及び該基台と共に画成する、該第1の弾性部材と、 前記冷却台及び前記基台に接触する金属製の締付部材であり、前記基台及び前記第1の弾性部材を、前記冷却台と該締付部材の間に挟持する、該締付部材と、 を備える載置台。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

H05H1/46 M ,  H01L21/68 N

Fターム (46件)：

2G084AA01 ,  2G084BB27 ,  2G084BB31 ,  2G084BB33 ,  2G084BB34 ,  2G084BB36 ,  2G084CC05 ,  2G084CC12 ,  2G084CC13 ,  2G084CC16 ,  2G084CC33 ,  2G084DD02 ,  2G084DD15 ,  2G084DD23 ,  2G084DD24 ,  2G084DD37 ,  2G084DD41 ,  2G084DD55 ,  2G084FF03 ,  2G084FF06 ,  2G084FF11 ,  2G084FF13 ,  2G084FF14 ,  2G084FF15 ,  2G084FF19 ,  2G084FF22 ,  2G084FF31 ,  2G084FF32 ,  2G084FF38 ,  2G084FF39 ,  2G084FF40 ,  2G084HH12 ,  2G084HH20 ,  2G084HH45 ,  2G084HH54 ,  5F131AA02 ,  5F131CA01 ,  5F131CA12 ,  5F131EA03 ,  5F131EA11 ,  5F131EB11 ,  5F131EB71 ,  5F131EB78 ,  5F131EB81 ,  5F131EB82 ,  5F131EB84