特許
J-GLOBAL ID:201703011051066545
RFフィルタのチューニングシステムおよびこれを用いたフィルタの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
大渕 美千栄
, 布施 行夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-516511
公開番号(公開出願番号):特表2017-537482
出願日: 2016年03月04日
公開日(公表日): 2017年12月14日
要約:
RFフィルタの自動チューニングシステム及びこれを用いたフィルタの製造方法を開示する。共振素子を有する複数の空洞と、それぞれの共振素子に対応する位置にチューニング領域を有するカバーを含むRFフィルタをチューニングするRFフィルタのチューニングシステムにおいて、前記RFフィルタの空洞の共振特性を測定する測定装置と、前記共振特性に基づいて前記RFフィルタのチューニング値を計算する制御装置、及び前記制御装置によって計算されたチューニング値に基づいて前記RFフィルタをチューニングするチューニング装置を含み、前記チューニング装置は、前記RFフィルタの前記カバーを打撃することで、共振値を調整して前記RFフィルタをチューニングする打撃器を含むRFフィルタのチューニングシステムを提供する。【選択図】図6
請求項(抜粋):
共振素子を有する複数の空洞と、それぞれの共振素子に対応する位置にチューニング領域を有するカバーを含むRFフィルタをチューニングするRFフィルタのチューニングシステムにおいて、
前記RFフィルタの空洞の共振特性を測定する測定装置と、
前記共振特性に基づいて前記RFフィルタのチューニング値を計算する制御装置、及び前記制御装置によって計算されたチューニング値に基づいて前記RFフィルタをチューニングするチューニング装置を含み、
前記チューニング装置は、前記RFフィルタの前記カバーの前記チューニング領域を打撃することで、共振値を調整して前記RFフィルタをチューニングする打撃器を含む
RFフィルタのチューニングシステム。
IPC (2件):
FI (3件):
H01P1/205 B
, H01P1/205 J
, H01P7/04
Fターム (6件):
5J006HC01
, 5J006HC22
, 5J006LA25
, 5J006LA27
, 5J006ND05
, 5J006NE11
引用特許:
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