特許

J-GLOBAL ID：201703011079024821

異なる置換基を対面に4つずつ有するかご型シルセスキオキサン

発明者： 海野 雅史 ,  江川 泰暢 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦
出願人/特許権者： 国立大学法人群馬大学 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (2件)： 平川 明 ,  石丸 竜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-204578
公開番号（公開出願番号）：特開2017-075128
出願日： 2015年10月16日
公開日（公表日）： 2017年04月20日
要約：

【課題】異なる置換基を対面に4つずつ有するかご型シルセスキオキサンを製造することができるシルセスキオキサンの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記式(B)で表される環状シロキサンと下記式(C)で表される環状シロキサンを縮合させることにより、異なる置換基を対面に4つずつ有するかご型シルセスキオキサンを効率良く製造することができる。(式(B)、(C)、及び(D)中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜20の炭化水素基を、Aはアルカリ金属を表し、R1同士及びR2同士はそれぞれ同一の炭化水素基であることを、R1とR2間はそれぞれ異なる炭化水素基であることを表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(B)で表される環状シロキサンと下記式(C)で表される環状シロキサンを反応させて下記式(D)で表されるシルセスキオキサンを生成する縮合工程を含む、シルセスキオキサンの製造方法。

IPC (1件)：

C07F 7/21

FI (1件)：

C07F7/21

Fターム (10件)：

4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VP08 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS87 ,  4H049VU36 ,  4H049VV03 ,  4H049VW02