特許

J-GLOBAL ID：201703011238403898

半導体粒子分散体、薄膜PTCサーミスタ及それらの製造方法

発明者： 添田 淳史 ,  池田 吉紀
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  出野 知 ,  関根 宣夫 ,  塩川 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-034882
公開番号（公開出願番号）：特開2017-152587
出願日： 2016年02月25日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
要約：

【課題】本発明は、様々な基材上へ薄膜PTCサーミスタを低コストに形成することができ、かつその薄膜PTCサーミスタに安定的なPTCサーミスタ特性を与えることができる半導体粒子分散体を提供する。【解決手段】本発明は、分散媒及び前記分散媒に分散している半導体粒子を含有している、薄膜PTCサーミスタを製造するための半導体粒子分散体に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

分散媒及び前記分散媒に分散している半導体粒子を含有している、薄膜PTCサーミスタを製造するための半導体粒子分散体。

IPC (1件)：

H01C 7/02

FI (1件)：

H01C7/02

Fターム (4件)：

5E034AA07 ,  5E034AA09 ,  5E034AB08 ,  5E034AC20