露光装置及びデバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-284351
公開番号（公開出願番号）：特開2014-126748
特許番号：特許第6099969号
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を露光する露光装置であって、マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンからの光を前記基板に照射する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板との間の空間の酸素濃度を調整する調整部と、前記基板に照射される光の照度のデータを取得する取得部と、前記取得部で取得された照度のデータに基づいて、前記基板に転写されるパターンの評価指標の値を許容範囲に収めるために必要となる前記空間の酸素濃度を決定し、前記空間の酸素濃度が前記決定した酸素濃度となるように、前記調整部を制御する制御部と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：