特許

J-GLOBAL ID：201703011620221813

欠陥検査方法および装置

発明者： 小西 孝明 ,  中野 博之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (3件)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-117115
公開番号（公開出願番号）：特開2017-003404
出願日： 2015年06月10日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
要約：

【課題】検査装置との相対速度および距離が変動する構造物の表面欠陥を、高速かつ高精度に検査する。【解決手段】構造物の表面に沿って移動し前記構造物表面を撮像する撮像機1と、前記撮像機1の撮像領域に光を照射する投光装置8と、前記撮像機1において撮像された光の撮像位置から求めた前記構造物表面までの距離を用いて前記撮像機のレンズ位置を制御する第1の制御部と、前記撮像機において撮像された光の周波数から求めた前記構造物との相対移動速度を用いて前記撮像機の駆動電荷転送速度を制御する第2の制御部10から構成されることを特徴とする欠陥検査装置。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

構造物の表面に沿って移動し前記構造物表面を撮像する撮像機と、 前記撮像機の撮像領域に光を照射する投光装置と、 前記撮像機において撮像された光の撮像位置から求めた前記構造物表面までの距離を用いて前記撮像機のレンズ位置を制御する第1の制御部と、 前記撮像機において撮像された光の周波数から求めた前記構造物との相対移動速度を用いて前記撮像機の駆動電荷転送速度を制御する第2の制御部とを備えたことを特徴とする構造物の欠陥検査装置。

IPC (5件)：

G01N 21/88 ,  G01N 21/84 ,  G01B 11/30 ,  H04N 5/225 ,  H04N 5/232

FI (5件)：

G01N21/88 J ,  G01N21/84 B ,  G01B11/30 A ,  H04N5/225 C ,  H04N5/232 Z

Fターム (44件)：

2F065AA06 ,  2F065AA09 ,  2F065AA49 ,  2F065BB05 ,  2F065CC14 ,  2F065DD04 ,  2F065DD10 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051AC16 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CC09 ,  2G051CD01 ,  2G051CD07 ,  2G051EA04 ,  2G051ED08 ,  5C122DA03 ,  5C122DA04 ,  5C122DA12 ,  5C122EA42 ,  5C122EA68 ,  5C122FH04 ,  5C122FH06 ,  5C122FH11 ,  5C122FH14 ,  5C122FH23 ,  5C122GG03 ,  5C122HB01 ,  5C122HB05 ,  5C122HB06