特許

J-GLOBAL ID：201703011670369390

マーク検出装置、露光装置、デバイス製造方法、及びマーク検出方法

発明者： 江上 茂樹 ,  上田 哲寛
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-111135
公開番号（公開出願番号）：特開2017-215556
出願日： 2016年06月02日
公開日（公表日）： 2017年12月07日
要約：

【課題】アライメント検出時間を短縮する。【解決手段】 アライメント系30は、X軸方向に所定間隔で配置され、ウエハWに設けられた格子マークGMを光学系を介して検出可能な複数のアライメントセンサ32p、32sを有し、該アライメントセンサ32p、32sを用いて前記物体に設けられた複数の格子マークGMを同時に検出可能なマーク検出系と、アライメントセンサ32p、32sそれぞれの光学系の焦点深度内に検出対象の格子マークGMが位置する際のウエハWの位置を算出する制御系と、を備える。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

所定の2次元平面内の第1方向に所定間隔で配置され、物体に設けられたマークを光学系を介して検出する複数の検出装置を有し、該複数の検出装置を用いて前記物体に設けられた複数のマークを同時に検出するマーク検出系と、 前記複数の検出装置それぞれの前記光学系の焦点深度に関する情報と、前記2次元平面と直交する第2方向に関する前記物体の位置に関する情報とに少なくとも基づいて、前記複数の検出装置のそれぞれの前記光学系と前記物体との位置関係を制御する制御系と、を備えるマーク検出装置。

IPC (4件)：

G03F 7/20 ,  G03F 9/00 ,  G01B 11/00 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521 ,  G03F9/00 H ,  G03F9/00 Z ,  G01B11/00 G ,  H01L21/68 F

Fターム (59件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC17 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065FF15 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065LL42 ,  2F065LL59 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197DC06 ,  2H197DC13 ,  2H197DC18 ,  2H197DC20 ,  2H197EB05 ,  2H197EB17 ,  2H197EB24 ,  2H197HA03 ,  2H197HA05 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA13 ,  5F131AA32 ,  5F131AA33 ,  5F131BA13 ,  5F131CA18 ,  5F131CA32 ,  5F131EA02 ,  5F131EA14 ,  5F131EA22 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EA25 ,  5F131EB01 ,  5F131FA17 ,  5F131FA32 ,  5F131FA33 ,  5F131KA03 ,  5F131KA16 ,  5F131KA40 ,  5F131KA44 ,  5F131KA47 ,  5F131KA54 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB53