反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：特許業務法人津国 , 津国肇 , 柳橋泰雄 , 生川芳徳 , 石岡隆 , 柴田明夫 , 坂本幸男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-249390
公開番号（公開出願番号）：特開2014-099461
特許番号：特許第6114009号
出願日： 2012年11月13日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マスクブランク基板の主表面上に反射用薄膜を有する反射型マスクブランクの製造方法であって、前記反射用薄膜が、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた多層反射膜を少なくとも含み、前記反射型マスクブランクの製造方法が、前記反射用薄膜を有する前記マスクブランク基板を用意する工程と、前記マスクブランク基板の基板周縁部の前記反射用薄膜の上面に、レジスト層を形成し、前記レジスト層を用いたリソグラフィープロセスによって、前記多層反射膜の少なくとも一部を除去することにより、前記反射型マスクブランクの欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークを形成する基準マーク形成工程とを含み、前記基準マーク形成工程が、前記反射用薄膜の上面にレジスト液を滴下して供給する滴下工程と、滴下した前記レジスト液を均一に広げる均一化工程と、を含み、前記滴下工程の間、前記マスクブランク基板が、静止しているか、又は、滴下された前記レジスト液が前記マスクブランク基板の回転による作用で実質的に移動しない回転速度で回転しており、前記均一化工程が、前記マスクブランク基板の回転速度を、前記均一化工程の最高回転速度に至るまで連続して加速する回転加速段階を含み、前記回転加速段階において、前記マスクブランク基板の回転速度の加速開始から前記均一化工程の最高回転速度に至るまでの時間が、少なくとも1秒以上あることを特徴とする、反射型マスクブランクの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 1/24 ( 201 2.01)

FI (2件)：

H01L 21/30 564 D , G03F 1/24

引用特許：

出願人引用 (2件)

EUVマスクブランク
公報種別：再公表公報出願番号：JP2008054808 出願人：旭硝子株式会社
塗布液塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-313434 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (2件)

EUVマスクブランク
公報種別：再公表公報出願番号：JP2008054808 出願人：旭硝子株式会社
塗布液塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-313434 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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