特許

J-GLOBAL ID：201703012022970808

リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法

発明者： 岡田 佳奈 ,  牧野嶋 高史 ,  越後 雅敏 ,  東原 豪 ,  大越 篤
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  内藤 和彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016061398
公開番号（公開出願番号）：WO2016-163457
出願日： 2016年04月07日
公開日（公表日）： 2016年10月13日
要約：

変性キシレンホルムアルデヒド樹脂をシアネート化して得られる、シアン酸エステル化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成用材料、該材料を含む組成物、該組成物を用いるパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

変性キシレンホルムアルデヒド樹脂をシアネート化して得られたシアン酸エステル化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成用材料。

IPC (5件)：

G03F 7/11 ,  G03F 7/26 ,  C08G 8/28 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/11 503 ,  G03F7/26 511 ,  C08G8/28 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 563 ,  H01L21/30 573

Fターム (41件)：

2H196AA25 ,  2H196BA11 ,  2H196CA06 ,  2H196EA06 ,  2H196GA08 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AE04N ,  2H225AE08N ,  2H225AE24N ,  2H225AF16N ,  2H225AF24P ,  2H225AF44N ,  2H225AF44P ,  2H225AH17 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ59 ,  2H225AM79N ,  2H225AM80N ,  2H225AN39N ,  2H225AN39P ,  2H225AN63P ,  2H225BA26P ,  4J033BA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA12 ,  4J033CA32 ,  4J033CA42 ,  4J033HA02 ,  4J033HA12 ,  4J033HB10 ,  5F146HA07 ,  5F146NA01 ,  5F146NA06