特許
J-GLOBAL ID:201703012047504119
放射線撮像装置、放射線撮像システム及び放射線撮像装置の処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
國分 孝悦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-032305
公開番号(公開出願番号):特開2017-152858
出願日: 2016年02月23日
公開日(公表日): 2017年08月31日
要約:
【課題】撮像枚数に応じて正常出力か異常出力かが変わる欠陥画素に対して、適切な補正を行うことができる放射線撮像装置、放射線撮像システム及び放射線撮像装置の処理方法を提供することを課題とする。【解決手段】放射線撮像装置は、撮像のために各々が放射線を電荷に変換することにより画素データを生成する複数の画素と、撮像枚数に応じて、欠陥画素情報を用いて、前記複数の画素のうちの欠陥画素の画素データを補正する欠陥補正処理部とを有する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
撮像のために各々が放射線を電荷に変換することにより画素データを生成する複数の画素と、
撮像枚数に応じて、欠陥画素情報を用いて、前記複数の画素のうちの欠陥画素の画素データを補正する欠陥補正処理部と
を有することを特徴とする放射線撮像装置。
IPC (4件):
H04N 5/32
, H04N 5/367
, G01T 7/00
, G01N 23/04
FI (4件):
H04N5/32
, H04N5/335 670
, G01T7/00 C
, G01N23/04 310
Fターム (15件):
2G001AA01
, 2G001BA11
, 2G001CA01
, 2G001HA07
, 2G188AA03
, 2G188AA25
, 2G188BB02
, 2G188CC22
, 2G188DD05
, 2G188EE33
, 2G188FF15
, 5C024AX11
, 5C024CX23
, 5C024GX09
, 5C024GY31
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