特許
J-GLOBAL ID：201703012581130615

溶射加工装置

発明者：
羽石 亮平

羽石 亮平 について

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松本 俊也

松本 俊也 について

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皆川 次夫

皆川 次夫 について


出願人/特許権者：
第一高周波工業株式会社

第一高周波工業株式会社 について


代理人 (2件)： 増子 尚道 ,  愛智 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-025066
公開番号（公開出願番号）：特開2017-140597
出願日： 2016年02月12日
公開日（公表日）： 2017年08月17日
要約：
【課題】溶射加工の効率化・省労力化・省スペース化を図る。【解決手段】基材にブラスト処理を行うブラスト部と、溶射処理を行う溶射部と、基材を回転させる回転装置と、基材を下方から回転可能に支持するローラを有する複数のローラ装置を含んで基材を長さ方向に移動させる台車と、制御部とを備え、基材の移動経路上にブラスト部と溶射部を配列させた溶射加工装置で、ブラスト部は、ブラストガンと、ブラスト材を回収するブラストトレーとを含み、溶射部は、溶射ガンと、溶射材を回収する溶射トレーとを含み、複数のローラ装置は、基材の長さ方向に沿って直線状に配列され、各ローラは、基材に当接する支持位置と、下方へ移動した退避位置との間で上下動でき、制御部は、基材の移動に伴ってローラが移動しブラストトレー及び溶射トレーの配置位置を通過するときにこれらのトレーにローラが衝突することがないように退避位置にローラを順次移動させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
加工対象である長尺の基材の外周面にブラスト処理を行うブラスト部と、 前記基材の外周面に溶射処理を行う溶射部と、 前記基材を当該基材の軸周りに回転させる回転装置と、 前記基材に当接して前記基材を下方から回転可能に支持する支持ローラを有する複数のローラ装置を含み、前記基材をその長さ方向に移動させる台車と を備え、 前記台車による基材の移動経路上に前記ブラスト部および前記溶射部が配列されるように当該ブラスト部と溶射部とを設置した溶射加工装置であって、 前記ブラスト部は、 ブラスト材を噴射し前記基材に吹き付けるブラストガンと、 前記基材に吹き付けた後のブラスト材を回収するブラストトレーと を含み、 前記ブラストガンは、加工状態における前記基材の上部位置に固定される一方、 前記ブラストトレーは、加工状態における前記基材の下部位置で且つ前記基材を挟んで前記ブラストガンの対向位置に固定されており、 前記溶射部は、 溶射材を噴射し前記基材に吹き付ける溶射ガンと、 前記基材に吹き付けた後の溶射材を回収する溶射トレーと を含み、 前記溶射ガンは、加工状態における前記基材の上部位置に固定される一方、 前記溶射トレーは、加工状態における前記基材の下部位置で且つ前記基材を挟んで前記溶射ガンの対向位置に固定されており、 前記ブラストガンと前記溶射ガンは、加工状態における前記基材の長さ方向に間隔を置いて配列され、 前記複数のローラ装置は、加工状態における前記基材の長さ方向に沿って直線状に配列され、これにより前記基材を前記支持ローラによって支持可能であり、 前記台車は、前記支持ローラによって支持した前記基材を当該基材の長さ方向に移動させることが可能であり、 前記支持ローラは、前記基材に当接する支持位置と、当該支持位置より下方へ移動した退避位置との間で上下動が可能であり、 前記溶射加工装置は、前記支持ローラの上下動を制御する制御部をさらに備え、 当該制御部は、前記台車による基材の移動に伴って前記支持ローラが移動し前記ブラストトレーおよび前記溶射トレーの配置位置を通過するときに、当該ブラストトレーおよび溶射トレーに前記支持ローラが衝突することがないように前記退避位置に前記支持ローラを順次移動させる ことを特徴とする溶射加工装置。
IPC (4件)：
B05C 5/04 ,  C23C 4/12 ,  B05C 9/10 ,  B05C 13/00
FI (4件)：
B05C5/04 ,  C23C4/12 ,  B05C9/10 ,  B05C13/00
Fターム (15件)：
4F041AA11 ,  4F041AB00 ,  4F041BA46 ,  4F041BA59 ,  4F042AA25 ,  4F042CC03 ,  4F042DA04 ,  4F042DF28 ,  4F042DF32 ,  4F042DF34 ,  4K031BA01 ,  4K031EA01 ,  4K031EA02 ,  4K031EA03 ,  4K031EA12
引用特許：
出願人引用 (5件)
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