特許

J-GLOBAL ID：201703012823155952

熱処理方法

発明者： 己之上 潤二 ,  宇田川 彰
出願人/特許権者： 富士電子工業株式会社
代理人 (1件)： 藤田 隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-200205
公開番号（公開出願番号）：特開2015-067838
特許番号：特許第6192463号
出願日： 2013年09月26日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ワークを誘導加熱する加熱工程と、加熱直後にワークに冷却液を噴射してワークを急冷する冷却工程を有する熱処理方法において、 前記冷却工程においては、ワークを立て姿勢に保持して回転し、その周囲から冷却液を放出するものであり、 ワークの回転方向の切り換えが可能であり、 前記冷却液は、回転するワークの周面に対して傾斜した放出列を形成して放出されることを特徴とする熱処理方法。

IPC (3件)：

C21D 1/10 ( 200 6.01) ,  C21D 1/18 ( 200 6.01) ,  C21D 1/667 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C21D 1/10 J ,  C21D 1/18 K ,  C21D 1/667