特許
J-GLOBAL ID:201703012891316263
ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法、及び該ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を用いた電子写真感光体の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
岡部 讓
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
, 齋藤 正巳
, 木村 克彦
, 田中 尚文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-203010
公開番号(公開出願番号):特開2017-075115
出願日: 2015年10月14日
公開日(公表日): 2017年04月20日
要約:
【課題】電荷発生物質として優れた特性を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製法、さらなる高感度化と共に、常温常湿環境下及び特に厳しい条件である低温低湿環境下であっても、ゴースト現象による画像欠陥が少ない画像を出力可能な電子写真感光体の製法の提供。【解決手段】ヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物を、1°C以上30°C以下の温度において湿式ミリング処理を行い、分散液を得る第1の湿式ミリング処理工程と、該分散液を、40°C以上60°C以下の温度において湿式ミリング処理を行い、CuKα線を用いたX線回折パターン(ブラッグ角2θ)において、7.4°±0.3および28.3°±0.3°にピークを示すヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を得る第2の湿式ミリング処理工程を有する製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法において、
ヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物を、1°C以上30°C以下の温度において湿式ミリング処理を行い、分散液を得る第1の湿式ミリング処理工程と、
該分散液を、40°C以上60°C以下の温度において湿式ミリング処理を行い、CuKα線を用いたX線回折パターン(ブラッグ角2θ)において、7.4°±0.3および28.3°±0.3°にピークを示すヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を得る第2の湿式ミリング処理工程と、
を有することを特徴とするヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法。
IPC (3件):
C07D 487/22
, G03G 5/06
, C09B 67/50
FI (3件):
C07D487/22
, G03G5/06 371
, C09B67/50 Z
Fターム (6件):
2H068AA19
, 2H068BA39
, 2H068EA05
, 2H068FA13
, 2H068FA18
, 4C050PA14
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