特許

J-GLOBAL ID：201703012935608640

積層体及びその形成方法、並びにガスバリアフィルム

発明者： 堀池 喬文
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (2件)： 廣瀬 一 ,  宮坂 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-103469
公開番号（公開出願番号）：特開2017-209834
出願日： 2016年05月24日
公開日（公表日）： 2017年11月30日
要約：

【課題】基材の表面に形成された原子層堆積膜が外力で容易に傷つかないようにしてガスバリア性を高めた積層体を提供する。【解決手段】積層体30は、基材と、前記基材の一方の面に形成された原子層堆積膜と、前記原子層堆積膜上に形成され水溶性高分子及び金属アルコキシドを有する保護層と、を備える一対の基体を備える。一対の基体は、保護層同士を対向させて積層し、対向する保護層の界面で、対向する保護層のうちの一方の保護層中の原子と他方の保護層中の原子との間に結合が形成されていることで前記対向する保護層同士が接着される。原子層堆積膜の厚さは、2nm以上100nm以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材と、前記基材の一方の面に形成された原子層堆積膜と、前記原子層堆積膜上に形成され水溶性高分子及び金属アルコキシドを有する保護層と、を備える一対の基体を備え、 前記一対の基体は、前記保護層同士を対向させて積層し、 前記対向する保護層の界面で、前記対向する保護層のうちの一方の保護層中の原子と他方の保護層中の原子との間に結合が形成されていることで前記対向する保護層同士が接着され、 前記原子層堆積膜の厚さが、2nm以上100nm以下であることを特徴とする積層体。

IPC (3件)：

B32B 9/00 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/40

FI (3件)：

B32B9/00 A ,  C23C16/455 ,  C23C16/40

Fターム (49件)：

4F100AA12B ,  4F100AA12D ,  4F100AA13B ,  4F100AA13E ,  4F100AA19B ,  4F100AA19E ,  4F100AA20B ,  4F100AA20E ,  4F100AA21B ,  4F100AA21E ,  4F100AA25B ,  4F100AA25E ,  4F100AA28B ,  4F100AA28E ,  4F100AH06C ,  4F100AH06D ,  4F100AK21C ,  4F100AK21D ,  4F100AK42A ,  4F100AK42E ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100EH66B ,  4F100EJ172 ,  4F100EJ422 ,  4F100EJ531 ,  4F100EJ53C ,  4F100EJ53D ,  4F100GB15 ,  4F100GB41 ,  4F100JD04 ,  4F100JL11 ,  4F100YY00B ,  4K030AA03 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA02 ,  4K030BA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030CA07 ,  4K030CA17 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030JA01 ,  4K030LA18