特許
J-GLOBAL ID:201703013241686429

熱処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大井 正彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-078743
公開番号(公開出願番号):特開2017-190470
出願日: 2016年04月11日
公開日(公表日): 2017年10月19日
要約:
【課題】 差厚鋼板や輪郭が特殊な形状の鋼板などの異形状の加熱対象物を加熱処理する場合においても、その全体を均質に所望の温度に加熱処理することができる熱処理装置を提供することにある。【解決手段】 熱処理装置は、処理室と、当該処理室内において略平板状の加熱対象物を局所的に接するよう支持する支持部と、前記処理室内において前記支持部に支持される加熱対象物の一面と対向するよう設けられた光照射部とを備え、前記光照射部から赤外線を照射して前記支持部に支持された加熱対象物を加熱処理する熱処理装置において、前記光照射部は、前記加熱対象物が伸びるべき面方向に沿って縦横に並設された複数の点光源型の加熱ランプよりなり、前記各加熱ランプからの赤外線の出力強度が、前記加熱対象物の形状に応じて各々独立に制御されることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
処理室と、当該処理室内において略平板状の加熱対象物を局所的に接するよう支持する支持部と、前記処理室内において前記支持部に支持される加熱対象物の一面と対向するよう設けられた光照射部とを備え、前記光照射部から赤外線を照射して前記支持部に支持された加熱対象物を加熱処理する熱処理装置において、 前記光照射部は、前記加熱対象物が伸びるべき面方向に沿って縦横に並設された複数の点光源型の加熱ランプよりなり、 前記各加熱ランプからの赤外線の出力強度が、前記加熱対象物の形状に応じて各々独立に制御されることを特徴とする熱処理装置。
IPC (5件):
C21D 1/34 ,  F27D 11/02 ,  F27D 19/00 ,  F27D 9/00 ,  C21D 1/00
FI (6件):
C21D1/34 R ,  F27D11/02 C ,  F27D19/00 Z ,  C21D1/34 K ,  F27D9/00 ,  C21D1/00 B
Fターム (18件):
4K034AA01 ,  4K034BA05 ,  4K034DB02 ,  4K034FB15 ,  4K056AA09 ,  4K056BA02 ,  4K056BB05 ,  4K056BB06 ,  4K056CA02 ,  4K056FA04 ,  4K063AA05 ,  4K063AA12 ,  4K063BA02 ,  4K063BA03 ,  4K063CA06 ,  4K063EA01 ,  4K063FA07 ,  4K063FA13
引用特許:
審査官引用 (3件)

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