特許

J-GLOBAL ID：201703013370381910

分析装置用ポリマー膜、分析装置、分析装置用基板、分析装置用ポリマー膜の製造方法、および分析装置用基板の製造方法

発明者： 藤田 悠二 ,  天谷 諭
出願人/特許権者： TOWA株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人深見特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-078015
公開番号（公開出願番号）：特開2017-187443
出願日： 2016年04月08日
公開日（公表日）： 2017年10月12日
要約：

【課題】Si基板等の基板から分離して使用可能であり、ナノポアの開口の歪みを低減する。【解決手段】分析装置用ポリマー膜は、ナノポア(12)が設けられたポリマー膜(11)を備えている。ナノポア(12)は、ポリマー膜(11)の表面(11a,11b)に設けられた開口(12a,12b)と、開口(12a,12b)からポリマー膜(11)を貫通するように設けられた内壁(12c)とを備えている。開口(12a,12b)の最小円(14)の直径に対する最大円(13)の直径の比が1.274以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ポリマー膜を備え、 前記ポリマー膜には、ナノポアが設けられており、 前記ナノポアは、前記ポリマー膜の表面に設けられた開口と、前記開口から前記ポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備え、 前記開口の最小円の直径に対する最大円の直径の比が1.274以下である、分析装置用ポリマー膜。

IPC (2件)：

G01N 27/00 ,  C12M 1/12

FI (2件)：

G01N27/00 Z ,  C12M1/12

Fターム (18件)：

2G060AA06 ,  2G060AA15 ,  2G060AD06 ,  2G060AF01 ,  2G060AG06 ,  2G060AG08 ,  2G060AG11 ,  2G060AG15 ,  4B029AA07 ,  4B029BB02 ,  4B029BB13 ,  4B029BB15 ,  4B029BB20 ,  4B029CC01 ,  4B029CC02 ,  4B029CC10 ,  4B029CC11 ,  4B029FA15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 少なくとも1の細孔を有するポリマー膜の製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-510462   出願人：ソニードイチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 2細孔装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2014-521721   出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア