特許

J-GLOBAL ID：201703013593523287

異方性磁石の製造方法

発明者： 長瀬 亮祐
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人上野特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-007828
公開番号（公開出願番号）：特開2017-130517
出願日： 2016年01月19日
公開日（公表日）： 2017年07月27日
要約：

【課題】偏平な結晶粒が配向した異方性磁石材料の各稜線に対して、高い均一性と加工能率をもって面取りを行うことができる異方性磁石の製造方法を提供する。【解決手段】厚さ方向軸に沿って積層して配向した偏平状の結晶粒と、該結晶粒の周囲を取り囲む粒界相と、を有してなり、厚さ方向軸に沿った稜線Tと、厚さ方向軸に交差する稜線L,Wとを有する異方性磁石材料1に対して、特定の稜線に対して選択的に面取りを行うことができる第一の方法によって、厚さ方向軸に沿った稜線Tの面取りを行う第一の工程と、第一の方法よりも面取りを行う稜線の選択性が低い、第一の方法と別の第二の方法によって、異方性磁石材料1全体の面取りを行う第二の工程と、を実施することを特徴とする異方性磁石の製造方法。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

厚さ方向軸に沿って積層して配向した偏平状の結晶粒と、該結晶粒の周囲を取り囲む粒界相と、を有してなり、前記厚さ方向軸に沿った稜線と、前記厚さ方向軸に交差する稜線とを有する異方性磁石材料に対して、 特定の稜線に対して選択的に面取りを行うことができる第一の方法によって、前記厚さ方向軸に沿った稜線の面取りを行う第一の工程と、 前記第一の方法よりも面取りを行う稜線の選択性が低い、前記第一の方法と別の第二の方法によって、前記異方性磁石材料全体の面取りを行う第二の工程と、 を実施することを特徴とする異方性磁石の製造方法。

IPC (3件)：

H01F 41/02 ,  H01F 7/02 ,  H01F 1/057

FI (4件)：

H01F41/02 G ,  H01F7/02 C ,  H01F7/02 E ,  H01F1/04 H

Fターム (5件)：

5E040AA04 ,  5E040CA01 ,  5E040HB05 ,  5E062CD04 ,  5E062CE01