特許

J-GLOBAL ID：201703013642861800

フェノール誘導体の製造方法

発明者： 渡辺 隆司 ,  中村 正治 ,  高谷 光 ,  福田 健治 ,  下平 晴記
出願人/特許権者： 国立大学法人京都大学 ,  大陽日酸株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 志賀国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-023576
公開番号（公開出願番号）：特開2017-145243
出願日： 2017年02月10日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
要約：

【課題】リグニンからフェノール誘導体を効率良く大量に生成することが可能なフェノール誘導体の製造方法を提供する。【解決手段】リグニン含有材料と、銅イオンと、アミン系助触媒と、を含む溶液に、マイクロ波を照射する、フェノール誘導体の製造方法を選択する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リグニン含有材料と、銅イオンと、アミン系助触媒と、を含む溶液に、マイクロ波を照射する、フェノール誘導体の製造方法。

IPC (3件)：

C07C 41/18 ,  C07C 43/23 ,  C07B 59/00

FI (3件)：

C07C41/18 ,  C07C43/23 A ,  C07B59/00

Fターム (13件)：

4H006AA02 ,  4H006AC26 ,  4H006AC84 ,  4H006BA05 ,  4H006BA37 ,  4H006BA51 ,  4H006BA95 ,  4H006BB31 ,  4H006BE32 ,  4H006CN10 ,  4H006GP03 ,  4H039CA99 ,  4H039CE90

引用特許：

審査官引用 (1件)

• リグニンモノマーの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-230355   出願人：国立大学法人京都大学, 帝人株式会社