特許

J-GLOBAL ID：201703013907783777

計測装置、パターン形成装置及び物品の製造方法

発明者： 前田 浩平
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 高岡 亮一 ,  小田 直
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-109635
公開番号（公開出願番号）：特開2017-215218
出願日： 2016年06月01日
公開日（公表日）： 2017年12月07日
要約：

【課題】計測系内に経時変化や外的変動が発生しても、基板側面位置を高精度に計測する計測装置を提供すること。【解決手段】被検物5の位置を計測する計測装置10であって、被検物5からの計測光、及び、被検物5を保持する保持部6に設けられた基準部材19からの参照光を検出する検出部17と、検出部17が検出した計測光に対応する第1の信号と、検出部17が検出した参照光に対応する第2の信号と、の比較結果に基づいて、基準部材19に対する被検物5の位置を求める演算部18と、を有する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被検物の位置を計測する計測装置であって、 前記被検物からの計測光、及び、前記被検物を保持する保持部に設けられた基準部材からの参照光を検出する検出部と、 前記検出部が検出した前記計測光に対応する第1の信号と、前記検出部が検出した前記参照光に対応する第2の信号と、の比較結果に基づいて、前記基準部材に対する前記被検物の位置を求める演算部と、を有することを特徴とする計測装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/20 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

G01B11/00 H ,  G03F7/20 521 ,  G03F9/00 H

Fターム (34件)：

2F065AA04 ,  2F065AA20 ,  2F065CC17 ,  2F065DD04 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF61 ,  2F065GG00 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ16 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2H197AA05 ,  2H197AA50 ,  2H197CA09 ,  2H197CD12 ,  2H197CD15 ,  2H197CD17 ,  2H197CD43 ,  2H197CD48 ,  2H197DC06 ,  2H197DC14 ,  2H197DC18 ,  2H197EB11 ,  2H197EB20 ,  2H197HA03