特許
J-GLOBAL ID：201703014257558664
照射計画を作成するための方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 大塚 康弘
, 高柳 司郎
, 木村 秀二
, 下山 治
, 木下 智文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-548863
特許番号：特許第6087295号
出願日： 2012年01月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 デバイスが、ラスター走査法による治療のためのイオンビームを照射するロバストな照射計画を作成する方法(1)であって、
前記デバイスの処理手段が、少なくとも特定の領域における、前記照射計画における少なくとも1つの不確かさの効果の、計算(6)と、表示(7)と、評価及び考慮(8)とのうちの少なくとも1つを、少なくとも2つの照射計画を比較することにより、並びにそれぞれのラスター点における前記不確かさ及び前記それぞれのラスター点が重要組織領域に相当するか否かに基づいて、それぞれのラスター点ごとに行うステップを含み、
前記ステップは、前記デバイスの処理手段が前記少なくとも2つの照射計画のそれぞれを異なるパラメータのセットを用いて計算することを含み、前記パラメータのセットに含まれるそれぞれのパラメータは、各パラメータの値として予測される変動範囲内から選択されることを特徴とする、方法(1)。
IPC (1件)：
FI (2件)：
A61N 5/10 P
, A61N 5/10 D
