特許

J-GLOBAL ID：201703014497551217

化学蒸着装置、化学蒸着方法

発明者： 龍岡 翔 ,  山口 健志
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (5件)： 志賀 正武 ,  寺本 光生 ,  松沼 泰史 ,  細川 文広 ,  大浪 一徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-135275
公開番号（公開出願番号）：特開2017-020111
出願日： 2016年07月07日
公開日（公表日）： 2017年01月26日
要約：

【課題】複数の被成膜物に均質な皮膜を形成することができる化学蒸着装置を提供する。【解決手段】被成膜物が収容される反応容器と、反応容器内に設けられたガス供給管と、反応容器内でガス供給管を回転軸周りに回転させる回転駆動装置と、を有し、ガス供給管の内部は、回転軸に沿って延びる第1ガス流通部と第2ガス流通部とに区画され、前記ガス供給管の管壁には、周方向に隣り合って配置された少なくとも3つ以上のガス噴出口からなるガス噴出口の組が設置され、前記ガス噴出口の組は、前記第1ガス流通部に流通する第1ガスを前記反応容器内に噴出させる第1ガス噴出口と、前記第2ガス流通部に流通する第2ガスを前記反応容器内に噴出させる第2ガス噴出口をそれぞれ少なくとも一つ以上含む、化学蒸着装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被成膜物が収容される反応容器と、前記反応容器内に設けられたガス供給管と、前記反応容器内でガス供給管を回転軸周りに回転させる回転駆動装置と、を有し、 前記ガス供給管の内部は、前記回転軸に沿って延びる第1ガス流通部と第2ガス流通部とに区画され、 前記ガス供給管の管壁には、周方向に隣り合って配置された少なくとも3つ以上のガス噴出口からなるガス噴出口の組が設置され、 前記ガス噴出口の組は、 前記第1ガス流通部に流通する第1ガスを前記反応容器内に噴出させる第1ガス噴出口と、前記第2ガス流通部に流通する第2ガスを前記反応容器内に噴出させる第2ガス噴出口をそれぞれ少なくとも一つ以上含むことを特徴とする、化学蒸着装置。

IPC (1件)：

C23C 16/455

FI (1件)：

C23C16/455

Fターム (21件)：

3C046FF09 ,  3C046FF10 ,  3C046FF13 ,  3C046FF22 ,  4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA02 ,  4K030BA18 ,  4K030BA22 ,  4K030BA29 ,  4K030BA38 ,  4K030CA03 ,  4K030CA05 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030EA06 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030LA22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体製造装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-520527   出願人：ウォニクアイピーエスカンパニリミテッド
• 半導体の気相成長方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-054030   出願人：株式会社日立製作所, 日立原町電子工業株式会社
• 表面被覆部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-287499   出願人：住友電工ハードメタル株式会社