特許
J-GLOBAL ID：201703014501768528

インキ膜厚分布の補正方法および装置

発明者：
平野 正大

平野 正大 について

, 
保崎 啓一

保崎 啓一 について


出願人/特許権者：
株式会社小森コーポレーション

株式会社小森コーポレーション について


代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-248122
公開番号（公開出願番号）：特開2014-094525
特許番号：特許第6093151号
出願日： 2012年11月12日
公開日（公表日）： 2014年05月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 インキツボキーを複数備え、これらインキツボキーの開き量の調整によってインキツボ内よりインキツボローラに供給されるインキの量を調整し、このインキツボローラに供給されたインキをインキ呼び出しローラの呼び出し動作によりインキローラ群を介して刷版へ供給するインキ供給装置におけるインキローラ群のインキ膜厚分布を試刷り中又は本刷り中に補正するインキ膜厚分布の補正方法において、 試刷り中又は本刷り中に、前記インキローラ群のインキの流動経路の末端に位置するインキ着ローラを脱とするとともに、前記インキ呼び出しローラの呼び出し動作を停止し、前記インキローラ群を複数のローラ小群に分割するローラ群分割ステップと、 前記ローラ群分割ステップによって分割された複数のローラ小群のうちの一部のローラ小群内のインキをインキ掻き取り部材で掻き取って除去するインキ除去ステップと を備えることを特徴とするインキ膜厚分布の補正方法。
IPC (3件)：
B41F 33/00 ( 200 6.01) ,  B41F 31/04 ( 200 6.01) ,  B41F 31/20 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B41F 33/00 230 ,  B41F 33/00 238 ,  B41F 33/00 242 ,  B41F 33/00 280 ,  B41F 31/04 ,  B41F 31/20
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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