特許

J-GLOBAL ID：201703014923657362

ガラス基板の製造方法、及び電子デバイス

発明者： 伊東 翔
出願人/特許権者： 日本電気硝子株式会社
代理人 (2件)： 城村 邦彦 ,  熊野 剛
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2015064937
公開番号（公開出願番号）：WO2015-182558
出願日： 2015年05月25日
公開日（公表日）： 2015年12月03日
要約：

ガラスフィルム1と支持ガラス2とを、無機膜3を介して密着させた積層体4を作製する積層体作製工程と、積層体4におけるガラスフィルム1に電子デバイス材5を形成してガラス基板6とする処理工程と、支持ガラス2からガラス基板6の全体を剥離させる剥離工程とを含んだガラス基板の製造方法であって、処理工程の実行後で、且つ剥離工程の実行前に、無機膜3にパルスレーザー7を照射して、その照射領域7xで支持ガラス2からガラス基板6の一部を剥離させることで、剥離工程の起点となる剥離起点部6xを形成する剥離起点部形成工程を実行するようにした。

請求項（抜粋）：

可撓性を有するガラスフィルムと、該ガラスフィルムを支持する支持ガラスとを、光吸収層を介して相互に密着させた積層体を作製する積層体作製工程と、 前記積層体における前記ガラスフィルムに電子デバイス材を形成して、該ガラスフィルムをガラス基板とする処理工程と、 前記支持ガラスから前記ガラス基板の全体を剥離させる剥離工程とを含んだガラス基板の製造方法であって、 前記処理工程の実行後で、且つ前記剥離工程の実行前に、前記光吸収層にパルスレーザーを照射して、その照射領域で前記支持ガラスから前記ガラス基板の一部を剥離させることで、前記剥離工程の起点となる剥離起点部を形成する剥離起点部形成工程を実行することを特徴とするガラス基板の製造方法。

IPC (5件)：

C03C 27/10 ,  B23K 26/57 ,  C03C 17/23 ,  B23K 26/351 ,  G02F 1/13

FI (5件)：

C03C27/10 A ,  B23K26/57 ,  C03C17/23 ,  B23K26/351 ,  G02F1/13 101

Fターム (48件)：

2H088FA17 ,  2H088FA23 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  4E168AD04 ,  4E168AE05 ,  4E168CB18 ,  4E168DA02 ,  4E168DA03 ,  4E168DA04 ,  4E168DA28 ,  4E168DA29 ,  4E168DA32 ,  4E168DA40 ,  4E168DA43 ,  4E168DA46 ,  4E168DA47 ,  4E168DA60 ,  4E168EA02 ,  4E168EA15 ,  4E168EA16 ,  4E168FD00 ,  4E168JA11 ,  4E168JA14 ,  4E168JA27 ,  4E168JB02 ,  4E168JB03 ,  4G059AA08 ,  4G059AC07 ,  4G059EA01 ,  4G059EA03 ,  4G059EA05 ,  4G059EA12 ,  4G059EB02 ,  4G059EB03 ,  4G059EB04 ,  4G061AA02 ,  4G061AA13 ,  4G061BA05 ,  4G061CA02 ,  4G061CB07 ,  4G061CB12 ,  4G061CD02 ,  4G061CD12 ,  4G061DA09 ,  4G061DA23