特許

J-GLOBAL ID：201703015662767242

光干渉断層撮影装置、その制御方法および光干渉断層撮影システム

発明者： 片芝 悠二
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (9件)： 岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  越智 隆夫 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  齋藤 正巳 ,  木村 克彦 ,  田中 尚文 ,  三村 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-135773
公開番号（公開出願番号）：特開2017-064378
出願日： 2016年07月08日
公開日（公表日）： 2017年04月06日
要約：

【課題】簡単な光学系で、かつ、分散補償計算の計算負荷を増加させることなく、対物レンズ交換による光学倍率の切り替えを行う。【解決手段】光を発生させる光源と、光源からの光を参照光と測定光とに分割する光分割手段と、測定光を照射した被検査物からの戻り光と参照光とを合波して得た合波光の強度を検出する検出手段と、検出された強度に基づいて被検査物の断層画像を形成する画像形成手段と、焦点距離が異なると共に光軸上の分散量が同一である複数の対物レンズを、被検査物に対向する測定光の光路上の位置に選択的に配置する配置手段と、より光干渉断層撮影装置を構築する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光を発生させる光源と、 前記光源からの光を参照光と測定光とに分割する光分割手段と、 前記測定光を照射した被検査物からの戻り光と前記参照光とを合波して得た合波光の強度を検出する検出手段と、 前記検出された強度に基づいて前記被検査物の断層画像を形成する画像形成手段と、 焦点距離が異なると共に光軸上の分散量が同一である複数の対物レンズを、前記被検査物に対向する前記測定光の光路上の位置に選択的に配置する配置手段と、 を有することを特徴とする光干渉断層撮影装置。

IPC (2件)：

A61B 3/10 ,  G01N 21/17

FI (2件)：

A61B3/10 R ,  G01N21/17 630

Fターム (24件)：

2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10 ,  4C316AA09 ,  4C316AB02 ,  4C316FA07 ,  4C316FA08 ,  4C316FY01 ,  4C316FZ02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 眼科装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-014648   出願人：キヤノン株式会社
• 眼科用光断層画像表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-015264   出願人：サンテック株式会社
• 建設機械
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-100998   出願人：住友建機株式会社
• 特許第7034271号