特許
J-GLOBAL ID：201703015913224049
EO触媒の選択率を改善する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-508537
特許番号：特許第6104888号
出願日： 2012年04月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 エチレンのエポキシ化に使用される担持された高選択性銀含有触媒の選択率を改善するための方法であって、
(a)スタートアップに続く始動期間の間、所望の処理量を達成するように、前記担持された高選択性銀含有触媒を含む触媒床を、ある濃度のエチレン(E1)、ある濃度の酸素(O1)、2.0容量%未満のある濃度の二酸化炭素(C1)及びある濃度の塩化物モデレーター(M1)を含むフィードガスと接触させるステップであって、240°C未満の第1の触媒運転温度T1が得られるものであるステップ;
(b)エチレン濃度E1を、より低い新たな制約濃度E2に低下させること;及び/又は酸素濃度O1を、より低い新たな制約濃度O2に低下させること、及び/又は二酸化炭素濃度C1を、より高い新たな制約濃度C2に増加させることにより、フィード組成を調整し、並びに/あるいは塩化物モデレーターの濃度をより高い濃度もしくはより低い濃度に調整して、前記始動期間の間、特定の所望の処理量における運転しながら、特定の高選択率銀含有触媒に関する触媒の運転温度を、より高い触媒運転温度T2に引き上げるステップであって、T2はT1より5から30°C高いステップであり;及び
(c)触媒活性が自然に低下するのに合わせて、所望の処理量及び運転温度T2を維持するように、エチレン濃度を増加させ、及び/又は酸素濃度を増加させ、及び/又は二酸化炭素濃度を低下させてフィード組成を徐々に調整し、並びに/あるいはモデレーター組成を調整するステップ
を含む、方法。
IPC (3件)：
C07D 301/10 ( 200 6.01)
, C07D 303/04 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07D 301/10
, C07D 303/04
, C07B 61/00 300
