特許
J-GLOBAL ID：201703015991362970

部分的な反射位置マークを有する基板を使用したリソグラフィシステムにおける位置決定

発明者：
ベルゲール、ニールス

ベルゲール、ニールス について

, 
デ・ボア、ギード

デ・ボア、ギード について


出願人/特許権者：
マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.

マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. について


代理人 (5件)： 蔵田 昌俊 ,  福原 淑弘 ,  野河 信久 ,  峰 隆司 ,  砂川 克
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-506356
特許番号：特許第6100241号
出願日： 2012年04月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板(313;513)と、アライメントビーム源(331)と、アライメントビーム強度検出器(319;519)と、光学系(333)とを具備するターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、 前記基板には、少なくとも部分的な反射位置マークが設けられ、前記反射位置マークは、複数の構造のアレイを有し、前記アレイは、前記反射位置マークの長手方向に沿って延び、 前記複数の構造は、前記長手方向に沿って前記反射位置マークの反射率を変化させるように構成され、前記反射率は、所定の波長に対して決定されるものであり、 前記アライメントビーム源(331)は、所定の波長の偏光アライメントビーム(311;511)を与えるように構成されており、 前記アライメントビーム強度検出器(319;519)は、反射されたアライメントビーム(318)の強度を決定するように構成されており、前記反射されたアライメントビームは、前記反射位置マーク上での前記偏光アライメントビームの反射によって発生されるものであり、 前記光学系は、前記反射位置マーク上に前記偏光アライメントビームを集束させて、前記反射されたアライメントビームを前記アライメントビーム強度検出器上に導くように構成されており、前記光学系は、 偏光ビームスプリッタ(336)と、 前記偏光アライメントビームが前記基板(313)上で、前記長手方向に沿った前記複数の構造の周期よりも短いビームスポットに集束されるように、前記基板(313)上に前記偏光アライメントビームを集束させるように配置されたフォーカスレンズ(312)と、 前記偏光ビームスプリッタと前記フォーカスレンズ(312)との間に位置された4分の1波長板(339)とを有し、 前記偏光ビームスプリッタ(336)は、前記アライメントビーム強度検出器に向かって前記反射されたアライメントビームを向けるように配置され、 前記アライメントビーム強度検出器(319;519)は、前記反射されたアライメントビームのゼロ次反射のみのアライメントビーム強度を検出するように、及び前記反射されたアライメントビームの強度を示す信号を与えるように構成されており、前記信号は、前記ビームスポットが前記反射位置マーク上を前記長手方向に沿って動くことから、前記反射位置マーク上における前記ビームスポットの位置を示すものである、リソグラフィシステム。
IPC (4件)：
G03F 9/00 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 9/00 H ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/68 K
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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