特許

J-GLOBAL ID：201703016431367418

ノズル、洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 氏家 敦 ,  本多 祐二
出願人/特許権者： 株式会社ユーテック
代理人 (2件)： 柳瀬 睦肇 ,  渡部 温
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013071882
公開番号（公開出願番号）：WO2015-022732
出願日： 2013年08月13日
公開日（公表日）： 2015年02月19日
要約：

【課題】ノズルの経路内壁が削られることによって生ずる金属汚染が洗浄後の基板の洗浄面に発生することを抑制する。【解決手段】本発明の一態様は、基板にCO2粒子を噴出させるノズル(11)において、前記ノズルの内壁にはHv1000〜5000のビッカース硬さを有する硬質膜が形成されていることを特徴とするノズル(11)である。

請求項（抜粋）：

基板にCO2粒子を噴出させるノズルにおいて、 前記ノズルの内壁にはHv1000〜5000のビッカース硬さを有する硬質膜が形成されていることを特徴とするノズル。

IPC (9件)：

C23C 16/27 ,  B08B 7/02 ,  H01L 21/304 ,  B24C 5/04 ,  B24C 1/00 ,  B05B 1/00 ,  C23C 16/32 ,  C23C 16/34 ,  C23C 14/06

FI (9件)：

C23C16/27 ,  B08B7/02 ,  H01L21/304 643Z ,  B24C5/04 A ,  B24C1/00 A ,  B05B1/00 Z ,  C23C16/32 ,  C23C16/34 ,  C23C14/06 H

Fターム (60件)：

3B116AA01 ,  3B116AA46 ,  3B116BA06 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB38 ,  4F033AA04 ,  4F033BA01 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033FA00 ,  4F033NA01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA27 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA54 ,  4K029BA58 ,  4K029BA60 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K030BA02 ,  4K030BA06 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030BA28 ,  4K030BA37 ,  4K030BA40 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030BA48 ,  4K030CA02 ,  4K030CA15 ,  4K030FA01 ,  4K030JA06 ,  4K030JA18 ,  4K030LA01 ,  4K030LA21 ,  5F157AA62 ,  5F157AA72 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB34 ,  5F157AC01 ,  5F157AC12 ,  5F157BA06 ,  5F157BA41 ,  5F157BA51 ,  5F157BB22 ,  5F157BB36 ,  5F157BC35 ,  5F157CF60 ,  5F157CF62 ,  5F157CF72 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18 ,  5F157DC90