特許
J-GLOBAL ID：201703016867450736
反応性スパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 誠
, 恩田 博宣
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013076974
公開番号（公開出願番号）：WO2015-029264
出願日： 2013年10月03日
公開日（公表日）： 2015年03月05日
要約：
反応性スパッタ装置は、化合物膜の形成領域(R1)にスパッタ粒子を放出するカソード装置(18)を備える。カソード装置(18)は、エロージョン領域を対向領域(R2)で走査する走査部(27)と、エロージョン領域が形成され、走査方向における長さが対向領域(R2)よりも短いターゲット(23)とを備える。走査部(27)は、走査方向での形成領域(R1)の2つの端部のうち、スパッタ粒子が先に到達する第1端部(Re1)と、走査方向にて形成領域の第1端部(Re1)に近いターゲット(23)の第1端部(23e1)との距離(D1)が、走査方向にて150mm以上である開始位置(St)から対向領域(R2)に向けてエロージョン領域を走査する。
請求項（抜粋）：
成膜対象物に形成すべき化合物膜の形成領域に向けてスパッタ粒子を放出するカソード装置を備え、
前記形成領域と対向する空間が対向領域であり、
前記カソード装置は、
エロージョン領域を前記対向領域で走査する走査部と、
前記エロージョン領域が形成され、走査方向における長さが前記対向領域よりも短いターゲットと、を備え、
前記走査部は、
前記走査方向での前記形成領域の2つの端部のうち、前記スパッタ粒子が先に到達する第1端部と、前記走査方向にて前記形成領域の前記第1端部に近い前記ターゲットの第1端部との距離が、前記走査方向にて150mm以上である開始位置から前記対向領域に向けて前記エロージョン領域を走査する
反応性スパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/54
, C23C 14/34
, C23C 14/35
C23C14/54 G
, C23C14/34 C
, C23C14/35 B
, C23C14/34 T
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA50
, 4K029BD01
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC16
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 4K029DC46
, 4K029HA01
, 4K029KA02
, 4K029KA09
