レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人英明国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-132241
公開番号（公開出願番号）：特開2017-120367
出願日： 2016年07月04日
公開日（公表日）： 2017年07月06日
要約：

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても溶解コントラストが大きく、かつLWRを小さくでき、PPDにおいても寸法変化が生じることがないレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及び下記式(A)で表される2,5,8,9-テトラアザ-1-ホスファビシクロ[3.3.3]ウンデカン塩化合物を含むレジスト材料。(式中、A-は、水酸化物イオン、塩素イオン、硝酸イオン、塩素酸イオン、ヨウ素酸イオン等、又は下記式(M-1)若しくは(M-2)で表される陰イオンである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ベースポリマー、及び下記式(A)で表される2,5,8,9-テトラアザ-1-ホスファビシクロ[3.3.3]ウンデカン塩化合物を含むレジスト材料。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , C08F 220/28 , C08F 212/14

FI (7件)：

G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , G03F7/004 504 , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , C08F220/28 , C08F212/14

Fターム (106件)：

2H225AD28 , 2H225AF11P , 2H225AF22P , 2H225AF24P , 2H225AF29P , 2H225AF39P , 2H225AF48P , 2H225AF52P , 2H225AF56P , 2H225AF64P , 2H225AF68P , 2H225AF69P , 2H225AF71P , 2H225AF99P , 2H225AH03 , 2H225AH16 , 2H225AH19 , 2H225AH20 , 2H225AJ04 , 2H225AJ12 , 2H225AJ13 , 2H225AJ42 , 2H225AJ48 , 2H225AJ54 , 2H225AJ58 , 2H225AJ59 , 2H225AJ60 , 2H225AL03 , 2H225AL22 , 2H225AM22P , 2H225AM27P , 2H225AM94P , 2H225AM99P , 2H225AN02P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225AN41P , 2H225AN42P , 2H225AN49P , 2H225AN50P , 2H225AN51P , 2H225AN54P , 2H225AN61P , 2H225AN67P , 2H225AN75P , 2H225AN79P , 2H225AN82P , 2H225AN88P , 2H225BA01P , 2H225BA02P , 2H225BA26P , 2H225BA32P , 2H225CA12 , 2H225CB09 , 2H225CB10 , 2H225CB18 , 2H225CC01 , 2H225CC03 , 2H225CC15 , 2H225CC17 , 2H225CD05 , 4H006AA03 , 4H006AB78 , 4H006BJ30 , 4H006BJ50 , 4H006BM10 , 4H006BM30 , 4H006BM71 , 4H006BS20 , 4H006BS30 , 4H050AA03 , 4H050AB78 , 4J100AB07P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA02P , 4J100BA02S , 4J100BA03 , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA15R , 4J100BA15S , 4J100BA50S , 4J100BA56S , 4J100BB12P , 4J100BB18P , 4J100BB18S , 4J100BC01P , 4J100BC03P , 4J100BC07P , 4J100BC08R , 4J100BC09Q , 4J100BC09S , 4J100BC43Q , 4J100BC43S , 4J100BC53P , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (5件)

無機酸化物ナノ粒子及び有機塩基を含む塩基性組成物、コーティングされた基材、物品、及び方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2014-557959 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
新規ポリマー及びそれを含有する熱硬化性組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2016-514133 出願人：フジフイルムエレクトロニックマテリアルズユー.エス.エー.,インコーポレイテッド
静電気防止性の光学的に透明な感圧性接着剤
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-503242 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー

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