特許
J-GLOBAL ID：201703017445619629
流動層乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
長門 侃二
, 越前 昌弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-144565
公開番号（公開出願番号）：特開2015-017742
特許番号：特許第6135856号
出願日： 2013年07月10日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 低品位炭を乾燥させる流動層乾燥装置であって、
前記低品位炭の流動層を貯留する流動層容器と、
前記低品位炭を流動化する流動化気体を前記流動層内に供給する流動化気体供給部と、
前記流動層容器の一側に形成され、当該流動層容器内へ前記低品位炭を供給する原炭投入部と、
前記流動層容器の他側にて前記原炭投入部より下方に形成され、乾燥させた前記低品位炭を前記流動層容器内から排出する乾燥炭排出部と、
前記乾燥炭排出部からの前記乾燥した低品位炭の排出量を調整する排出量調整手段と、
前記原炭投入部から供給される前記低品位炭の水分量を検出する水分量検出手段と、
前記水分量検出手段により検出された前記低品位炭の水分量に応じて、前記排出量調整手段を制御し、前記流動層容器内の前記流動層の層高を調整する層高制御手段と、
前記流動層の層高を検出する層高検出手段と、
を備え、
前記層高制御手段は、前記層高検出手段により検出される前記流動層の層高が予め前記低品位炭の水分量に応じて設定された層高を達成すべく、前記排出量調整手段を制御することを特徴とする流動層乾燥装置。
IPC (4件)：
F26B 3/084 ( 200 6.01)
, F26B 25/00 ( 200 6.01)
, C10J 3/54 ( 200 6.01)
, C10L 9/08 ( 200 6.01)
F26B 3/084
, F26B 25/00 J
, C10J 3/54 G
, C10L 9/08
