特許
J-GLOBAL ID：201703017554624519

光学材料用重合性組成物の製造方法

発明者：
堀田 明伸

堀田 明伸 について

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嘉村 輝雄

嘉村 輝雄 について

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輿石 英二

輿石 英二 について

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竹内 基晴

竹内 基晴 について


出願人/特許権者：
三菱瓦斯化学株式会社

三菱瓦斯化学株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-021382
公開番号（公開出願番号）：特開2014-152208
特許番号：特許第6089744号
出願日： 2013年02月06日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 メディアン径が5μm〜500μmの下記(a)化合物10〜50質量部、下記(b)化合物50〜90質量部(ただし、(a)化合物と(b)化合物との合計は100質量部とする)および下記(c)化合物1〜20質量部とを、下記(d)化合物0.001〜3質量部を予備重合触媒として予備重合反応して予備重合反応液を得る工程、および前記予備重合反応液に重合触媒を添加する工程を有する光学材料用重合性組成物の製造方法であり、前記予備重合反応を反応温度0°C〜45°C、レイノルズ数1.5×103〜1.5×104の攪拌下に行うことを特徴とする光学材料用重合性組成物の製造方法。 (a)硫黄((a)化合物) (b)下記(1)式で表されるエピスルフィド基を分子内に2個有する化合物((b)化合物) (ここで、mは0〜4の整数、nは0〜1の整数を表す。) (c)SH基を2個有する化合物((c)化合物) (d)下記(2)式で表される化合物((d)化合物)。 (Rは炭素数1〜4のアルキル基、Xはビニル基、ビニリデン基またはビニレン基のいずれかを有する炭素数2〜11の有機基)
IPC (2件)：
C08G 75/08 ( 200 6.01) ,  G02B 1/04 ( 200 6.01)
FI (2件)：
C08G 75/08 ,  G02B 1/04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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