特許

J-GLOBAL ID：201703017703669350

レジスト組成物及び塩

発明者： 増山 達郎
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-097035
公開番号（公開出願番号）：特開2017-151474
出願日： 2017年05月16日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
要約：

【課題】広い露光マージンでレジストパターンを製造できるレジスト組成物及び当該レジスト組成物の構成成分として有用な新規化合物(塩)を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂(A)と、 スルホニウム塩又はヨードニウム塩からなる酸発生剤(B)と、 式(I-1)で表される塩と、 溶剤とを含有するレジスト組成物は、広い露光マージンでレジストパターンを製造できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂(A)と、 スルホニウム塩又はヨードニウム塩からなる酸発生剤(B)と、 式(I-1)で表される塩と、 溶剤とを含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 69/63 ,  C08F 20/18

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  C07C69/63 ,  C08F20/18

Fターム (46件)：

2H225AF24P ,  2H225AF53P ,  2H225AF67P ,  2H225AH17 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ55 ,  2H225AJ59 ,  2H225AN02P ,  2H225AN32P ,  2H225AN38P ,  2H225AN39P ,  2H225AN45P ,  2H225AN50P ,  2H225AN51P ,  2H225AN54P ,  2H225AN56P ,  2H225AN65P ,  2H225AN67P ,  2H225AN85P ,  2H225BA02P ,  2H225BA26P ,  2H225CA12 ,  2H225CB10 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006BM71 ,  4H006BS10 ,  4H006KC12 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09S ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38